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薄膜沉积设备:应用材料在PVD领域优势明显集成电路薄膜材料制造采用的工艺为物相沉积PVD(PhysicalVaporDeposition)与化学气相沉积CVD(ChemicalVaporDeposition)等。物相沉积指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积，包括蒸发、溅射、离子束等。化学气相沉积指将含有薄膜元素的气体通过气体流量计送至反应腔晶片表面反应沉积，包括低压化学气相沉积LPCVD、金属有机化合物气相沉积MOCVD、等离子体增强化学气相沉积PECVD等。原子层沉积ALD属于化学气相沉积的一种，区别在于化学吸附自限制(CS)与顺次反应自限制(RS)，每次反应只沉积一层原子，从而具备成膜均匀性好、薄膜密度高、台阶覆盖性好、低温沉积等优点，适用于具有高深宽比、三维结构基材。全球竞争格局:集成电路PVD领域主要被美国应用材料(AppliedMaterials)、瑞士Evatec、日本爱发科(Ulvac)所垄断，其中应用材料占比约85%;CVD领域全球主要供应商为美国应用材料(AppliedMaterials)、东京电子(TokyoElectron)、泛林半导体(LamResearch)，其中应用材料占比约30%。国内竞争格局:国内集成电路领域沉积设备供应商主要为沈阳拓荆与北方华创。沈阳拓荆:两次承担国家“02专项”。 半导体设备进口清关、半导体设备进口搬迁物流服务，进口半导体设备应该注意问题。荷兰靠谱的半导体设备进口报关服务热线

下游需求自主可控将拉动国产设备近千亿市场需求19年全球半导体投资放缓，预计2020年有望回暖。2019年全球半导体市场规模4110亿美金，同比下降，在全球景气度下行的背景下，受中国大陆智能手机销量等因素影响，2019年的全球半导体行业市场萎缩。半导体投资与行业市场规模高度同步，观察全球半导体行业投资规模，2018/2019年投资规模，同比下降，连续两年下滑，根据机构SEMI报告显示，受益于技术革新需要以及5G网络更新设备需求，预计2020年全球半导体行业资本支出将回暖至，同比+。从半导体大厂看，2020年资本开支呈现快速增长趋势。以全球比较大的半导体晶圆代工foundry厂台积电与中国大陆比较大的半导体晶圆代工foundry厂中芯国际为例，台积电2019年资本开支1071亿元，同比增长，预计2020年资本开支将持续稳定在高位，同比小幅增长。中芯国际2019年资本开支，同比增长，2020年同时受益于全球半导体投资回暖与国产替代，预计其资本开支约217亿元，同比+，资本开支加速上扬。另外，联电、日月光预计2020年资本开支也将加速增长。近年来中国晶圆厂建设进度加快，根据芯思想研究院数据显示，新建的20家FAB中，19年上半年有2家在建厂完毕逐步投产，12家在建。 西班牙办理半导体设备进口报关诚信推荐LED晶粒分选/分拣/测试机/进口清关。

获取报告请登录未来智库。，MOCVD实现国产替代公司深耕刻蚀设备，技术比肩国际巨头。中微公司成立于2004年，前身为中微有限。公司主营业务为半导体等离子刻蚀设备（Etch）和用于LED的金属气相沉积设备（MOCVD），刻蚀设备方面，公司自成立以来便着手开发等离子刻蚀设备，目前已涵盖CCP、ICP和深硅刻蚀三大领域，刻蚀设备已在海内外前列客户芯片生产线进行65纳米到5纳米工艺的芯片加工制造。由于公司开发出与美国设备公司具有同等质量和相当数量的等离子体刻蚀设备并实现量产，美国商务部在2015年宣布解除了对我国等离子体刻蚀设备多年的出口管制。CCP刻蚀设备：自成立伊始公司就着手开发甚高频去耦合等离子体刻蚀设备PrimoD-RIE（CCP刻蚀设备），到目前为止已成功开发了双反应台PrimoD-RIE、双反应台PrimoAD-RIE和单反应台PrimoSSCAD-RIE三代刻蚀设备，以及用于存储芯片的PrimoHD-RIE，涵盖65-5纳米微观器件的众多刻蚀应用。ICP刻蚀设备：2012年公司开发电感性等离子体刻蚀设备（ICP刻蚀设备），2018年发布代电感耦合等离子体刻蚀设备Primonanova，该设备不仅能够用于多种导体刻蚀工艺，比如浅沟槽隔离刻蚀（STI）、多晶硅栅极刻蚀；同时可用于介质刻蚀，如间隙壁刻蚀。

新旧半导体海关审价流程：1.进口货物以海关审定的成交价格为基础的到岸价格作为完税价格。其成交价格经海关审查未能确定的，应以该货物的同一出口国或地区购进的相同或者类似货物的成交价格为基础；再未能确定的，应以相同或类似进口货物在国内市场的批发价格，减去进口关税、进口环节其他税收以及进口后的运输、仓储、营业费用及利润作为完税价格。2.对一些特殊进口货物，应以海关审定的修理费和料件费作为完税价格；对运往加工的货物，出境时已向海关报明并在规定期限内复运进境的，应以加工后的货物进境时的到岸价格与原出境货物或者相同、类似的货物在进境时的到岸价格之间的差额，作为完税价格；对于租赁，包括租借方式进口的货物，以海关审定的货物的租金作为完税价格.3.海关对进出口人所申报价格的真实性、完整性有怀疑，需要进出口人进一步解释说明的，海关会制发“价格质疑通知书”并送达进出口人，通知其就存在的疑点进行解释。进出口人应当提供“价格质疑通知书”所要求补充提供的资料，如实填写“价格补充申报单”，配合海关验估人员确定应税货物实际状态和完税价格的工作。如果进出口人的解释说明仍不能解除海关的疑虑。 半导体是指在某些条件下导电某些条件下不导电的一类材料，常用“半导体”一词来泛指半导体电子元器件。

硅片边缘曝光机系列——芯片级封装工艺应用SMEE开发的硅片边缘曝光机提供了满足芯片级封装工艺中对硅片边缘进行去胶处理的能力，设备可按照客户要求配置边缘曝光宽度、硅片物料接口形式、曝光工位等不同形式。设备同时兼容150mm、200mm和300mm等三种不同规格的硅片，边缘曝光精度可到达。设备配置了高功率光源，具有较高的硅片面照度，提高了设备产率。至纯科技成立于2000年，主要为电子、生物医药及食品饮料等行业的先进制造业企业提供高纯工艺系统的整体解决方案，产品为高纯工艺设备和以设备组成的高纯工艺系统，覆盖设计、加工制造、安装以及配套工程、检测、厂务托管、标定和维护保养等增值服务。该公司在2016年前产品约一半收入来自医药类行业，光伏、LED行业及半导体行业收入占比较小。2016年以来，公司抓住半导体产业的发展机遇，逐步扩大其产品在半导体领域的销售占比，2016和2017年来自半导体领域收入占公司营业收入比重分别为50%和57%，占据公司营业收入半壁江山。主攻半导体清洗设备。该公司于2015年开始启动湿法工艺装备研发，2016年成立院士工作站，2017年成立的半导体湿法事业部至微半导体。 常见一般机电设备有：机床设备、仪器设备、半导体设备、加工中心、冲床、铣床、光伏设备、磨床等各种设备。海口实力的半导体设备进口报关咨询热线

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